指股网10月14日消息，佳能（Canon）公司近日发布佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。这套设备可以应用于最小14平方毫米的硅晶圆，从而可以生产相当于5nm工艺的芯片。佳能表示会继续改进和发展这套系统，未来有望用于生产2nm芯片。指股网注：纳米印刷（Nanoprintedlithography）通常被认为是光学光刻的低成本替代品，SK海力士和铠侠等存储芯片制造商过去曾尝试过使用。铠侠此前进行过测试，不过潜在客户提出投诉，认为产品缺陷率较高，最后选择放弃。广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，指股网所有文章均包含本声明。