ASML 展示价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机,重达 15 万公斤

2024-02-11     网友
该系统已获得英特尔公司的订单,首台机器已于去年年底运抵其位于俄勒冈州的D1X工厂,英特尔计划在2025年年底开始使用该系统进行生产。High-NAEUV光刻机能够在半导体上蚀刻出仅8纳米宽的线条,是上一代产品的1/1.7。更细的线条意味着芯片可以容纳更多的晶体管,从而实现更快的处理速度和更高的存储容量,这对于人工智能工作负载至关重要。ASML首席执行官PeterWennink上个月在接受彭博社采访时表示:“人工智能需要大量计算能力和数据存储。我认为如果没有ASML,如果没有我们的技术,这是不可能实现的。这将成为我们业务的一大驱动力。”作为唯一一家生产制造最先进半导体的设备供应商,ASML的产品需求一直被视为行业健康状况的风向标。该公司上季度收到了创纪录的顶级EUV光刻机订单,显示了包括英特尔、三星电子和台积电在内的大客户对该技术的乐观预期。ASML发言人MoniqueMols在公司位于荷兰费尔霍芬的总部举行的媒体参观活动中表示,安装这台重达150,000公斤的系统共计用时6个月,需要250个集装箱和250名工程师。去年底OpenAI推出ChatGPT后,生成式人工智能领域的发展引爆了整个半导体行业的增长预期,ASML自2018年以来一直在销售低数值孔径EUV光刻机,售价为1.7亿欧元(当前约13.21亿元人民币)。广告声明:文内含有的对外跳转链接(包括不限于超链接、二维码、口令等形式),用于传递更多信息,节省甄选时间,结果仅供参考,指股网所有文章均包含本声明。
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